雙級(jí)反滲透系統(tǒng)回用硅片清洗廢水
近年來，硅片產(chǎn)業(yè)發(fā)展迅速。硅片是制造晶體管和集成電路的原材料。換句話而言，就是硅片是芯片制造的原材料。通常是晶硅的切片，通過光刻和離子注入的方法制成各種半導(dǎo)體器件，是半導(dǎo)體工業(yè)中重要的原材料。隨著硅片工業(yè)的蓬勃發(fā)展，環(huán)境污染問題隨之而來，產(chǎn)生了大量的廢水。生產(chǎn)廢水主要來自多晶硅錠切片過程的清洗環(huán)節(jié)。多晶硅錠經(jīng)混酸表面處理后，在清洗過程中產(chǎn)生含酸廢水。由于表面處理是硝酸和氫氟酸的混合酸，清洗廢水中的主要污染物是pH、氟化物和鈣鹽。
采用雙級(jí)反滲透系統(tǒng)對(duì)清洗廢水進(jìn)行深度處理。通過預(yù)處理降低鈣離子和氟離子含量后，可滿足超濾系統(tǒng)進(jìn)水要求。廢水進(jìn)入超濾系統(tǒng)，超濾產(chǎn)水進(jìn)入一級(jí)反滲透處理系統(tǒng)，產(chǎn)水進(jìn)入產(chǎn)水箱，濃水進(jìn)入二級(jí)反滲透系統(tǒng)進(jìn)一步回收。
膜法硅片清洗廢水處理工藝：
硅片清洗廢水→預(yù)處理→超濾→一級(jí)反滲透→二級(jí)反滲透→產(chǎn)水
兩級(jí)反滲透系統(tǒng)法回用硅片清洗廢水中醋酸的過程是純物理常溫操作工藝，無化學(xué)反應(yīng)，能耗低。整套反滲透系統(tǒng)可設(shè)計(jì)在線再生清洗排污裝置，降低勞動(dòng)強(qiáng)度和生產(chǎn)成本，提高生產(chǎn)效率。反滲透系統(tǒng)總回收率控制在75%左右，實(shí)現(xiàn)有效回收。膜元件填充面積大，系統(tǒng)占地面積小，便于技術(shù)改造、擴(kuò)建或新建項(xiàng)目，降低了生產(chǎn)成本和投資。
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